真空光學(xué)鍍膜工藝流程及用到的真空泵
發(fā)布時間：
2023-10-25 16:10
來源：
真空光學(xué)鍍膜工藝是一種重要的表面處理工藝，常用于光學(xué)儀器、電子設(shè)備、航空航天等領(lǐng)域。其基本原理是利用真空環(huán)境中的物理和化學(xué)現(xiàn)象，使金屬薄膜或氧化膜沉積在基材上形成所需的光學(xué)特性。下面以“某光學(xué)鏡片鍍膜工藝流程”為例，來介紹真空光學(xué)鍍膜工藝流程。
一、工藝準(zhǔn)備:
1、材料準(zhǔn)備:選用高質(zhì)量的光學(xué)鏡片。
2、設(shè)備準(zhǔn)備:真空膜厚計、真空泵、離子源、金屬靶材料等。
3、環(huán)境準(zhǔn)備:密閉嚴(yán)密的真空室。
4、處理工具:打磨、清洗、去污等工具。
二、工藝流程:
1、打磨:對光學(xué)鏡片進(jìn)行精細(xì)打磨，以去除表面微小凹陷和雜質(zhì)。
2、清洗:使用特殊的清洗液以及超聲波清洗設(shè)備對光學(xué)鏡片進(jìn)行清洗，確保表面干凈。最好是先用清水清洗一遍， 再用去離子水清洗。
3、真空加熱:放入真空室內(nèi)，用通電加熱的方式將光學(xué)鏡片進(jìn)行升溫處理，使表面吸附的氣體得以蒸發(fā)并被泵走。
4、金屬膜沉積:將工作氣體引入真空室，開啟離子源區(qū)域，將金屬靶材料進(jìn)行蒸發(fā)，靶材料原子沉積在光學(xué)鏡片表面，并形成一層 非常薄的金屬薄膜。
5、膜厚監(jiān)控和控制:使用真空膜厚計對薄膜進(jìn)行實時監(jiān)控，根據(jù)需要調(diào)整離子源運行參數(shù)，確保形成所需的光學(xué)特性。
6、冷卻中收回工件:當(dāng)工件達(dá)到預(yù)定膜厚或者鍍膜時間結(jié)束時，離子源停止，真空室內(nèi)冷卻至環(huán)境溫度。工件拿出真空室，放置于恒溫房中冷卻至室溫，鍍膜完成。
三、案例說明:
例如:一批8英寸正厚度圓晶片(100) Oriented上，半導(dǎo)體研磨基板需進(jìn)行紫外線的反射膜鍍膜，要求反射率高達(dá)98%以上，波長范圍為250~400nm。通常使用氧化硅(Si02) 和二氧化硅(Si02) 的多層膜結(jié)構(gòu)，并采用離子輔助沉積法進(jìn)行制備。反射膜結(jié)構(gòu)為: 202層Hf02/Si02， 反射率在250^ 390nm范圍內(nèi)高達(dá)99%以上，以提高紫外線光強，應(yīng)用于紫外線激光系統(tǒng)中。
通過上述過程，光學(xué)鏡片可精準(zhǔn)控制膜厚，實現(xiàn)光學(xué)鏡片的鍍膜需求，并確保鍍膜前后表面無任何缺陷和瑕疵，并防止末端瘤等問題的產(chǎn)生。
注：光學(xué)鍍膜真空泵一般有用到：旋片泵、隔膜泵、渦旋泵、羅茨泵、分子泵等等。關(guān)于更多詳情請咨詢深圳信德宏遠(yuǎn)。
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購買真空泵時有幾個注意事項需要考慮。 首先，需要確定所需真空泵的種類和用途。不同種類的真空泵適用于不同的應(yīng)用領(lǐng)域，如實驗室、工業(yè)制造等，根據(jù)具體需求選擇適合的型號。