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氣體分析儀 RGM2-302
RGM系列分析儀適合在蝕刻設(shè)備、CVD設(shè)備的工藝管理（品質(zhì)管理、提高效率）和終點(diǎn)監(jiān)測(cè)。
所屬分類：
愛發(fā)科
氣體分析儀
CVD-ALD-刻蝕工藝
氣體分析儀
關(guān)鍵詞：
愛發(fā)科
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- 產(chǎn)品特點(diǎn)和用途
- 產(chǎn)品參數(shù)和曲線圖
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|特點(diǎn)
1、可以在反應(yīng)過程中長(zhǎng)時(shí)間進(jìn)行穩(wěn)定的測(cè)量
2、采用具有磁場(chǎng)的Claude離子源
3、軟電離可防止在高靈敏度電離室因熱反應(yīng)而產(chǎn)生的分解和吸附，同時(shí)氣體離解較少
4、緊湊型流量控制閥
5、處理室到離子源的距離很短，可以快速響應(yīng)分辨率
6、可以測(cè)量寬范圍的壓力10-6 to 13kPa（口徑可選）
7、無需電腦也可以測(cè)量
8、One Click機(jī)能（對(duì)每個(gè)人來說都很容易，不需要復(fù)雜的操作）
9、連接傳感器單元時(shí)，最大可以進(jìn)行120℃的高溫烘烤
10、離子源，二次電子倍增管的預(yù)防性維護(hù)分析管加載了可追溯性（專利申請(qǐng)中）
11、可進(jìn)行氦氣檢漏，漏氣測(cè)試
12、標(biāo)準(zhǔn)搭載軟件（Windows 8/10/11）
|用途1、CVD/ALD/蝕刻設(shè)備
2、監(jiān)測(cè)工藝中的反應(yīng)氣體
3、蝕刻和清潔工藝的末端監(jiān)測(cè)
4、殘留氣體測(cè)量
5、檢漏
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|規(guī)格參數(shù)
型式 RGM2-202 RGM2-302 質(zhì)量數(shù)范圍 1-200 amu 1-300 amu 靈感度 1×10-3 A/Pa (二次電子增倍管（SEM）) 檢知分壓 1×10-10Pa 抽樣壓力 13 KPa 分辨率 M/?M=1M(10% P.H.) 氣體導(dǎo)入閥門 帶有孔徑的流路控制閥門 離子源/燈絲 帶磁鐵的密封型離子源 / V字型燈絲 Ir / Y2O3(1本） 軟件 Qulee QCS Ver.3.1以降（Windows 7/8/10）適用 備注 |曲線圖
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